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我们是业界领先的PVD陶瓷涂层供应商,为客户提供专业、优质的涂层加工服务!
我们基于领新的PVD陶瓷涂层技术,帮 助客户赢得市场!
针对不同需求,提供个性化解决方案。 霖晨随时准备满足您的特殊需求!
服务、创新、诚信
是霖晨的服务核心
4G-CAE是一种采用复合磁场驱动的电弧技术,它跟普通电弧相比具有成膜细腻、更有光泽、膜层致密性好,无液滴等特点。
技术优点:在强力可变磁场的驱动下,弧斑跑动更快,每个弧斑更细碎。弧斑数量更多,从而降低“微滴液”的尺寸和大滴液的数量,使得所镀膜层更加细腻和光泽,致密性好;
通过电场强度和频率的变化,阴极电弧放点在靶材表面附近产生的等离子体,会被推向镀膜区域,大大增加了真空室内的等离子体密度,改善了反应离子镀膜的环境和条件;
沉积速率高;
离化率高,膜层致密膜基结合率好;
GISETCH是霖晨公司经过多年的技术沉淀开发出来的专有技术,它是利用GIS产生的气体离子(Ar+和H+)。在电厂作用下,对产品表面进行刻蚀清洗。相比传统的金属离子(Ti+和Cr+)刻蚀清洗,具有更多的优势:
· 在镀膜前,利用GIS气体离子源将气体(包括氢气、氧气、氦气等)离化,产生的气体离子对工件表面进行刻蚀清洗及活化,提高镀膜的结合力;
· 在镀膜过程中,利用GIS气体离子源将气体(包括氢气、氧气、氦气等)离化,辅助磁控溅射和电弧镀膜,提高反应镀膜的活性,提高镀膜的致密性和改善镀膜的均匀性。
技术优点:
能量范围宽,可强可弱,容易调控;
工作区域分布均匀,刻蚀效果一致性好;
刻蚀清洗过程中无金属液滴沉积,膜层光洁度更好;
通过特殊工艺,有效去除真空室内残余气体,改善镀膜环境。
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